第25章 老鲜肉,芯片制程工艺(2/2)

会露馅的。”牛光辉笑了笑，“你不知道，上午，老师为了拿到政策，和校长徐正平在校长办公室大吵了一场，最后，校长勉强接受了，不过有个条件，让苏哲做一套试卷，分数只要超过80分就行。”
现在学校已经传开了，说他老师王修齐院士为了给亲戚家的孩子走后门，和校长大吵了一场。
“做试卷，什么试卷？”包正义问。
“那个，是从国家竞赛集训队找来的题目，从数学、物理、化学、生物、信息学五个科目中各找了十五道填空题和一道解答题，加在一起是七十五道填空题，五道解答题，满分一百分。”牛光辉解释。
“你们，你们过分了吧！前面四个科目我就不说了，信息学算怎么回事，苏哲根本没有接受过相关的训练，你们这是在坑人。”包正义愤愤不平的说。
“这是徐正平校长妥协的条件，毕竟你提出的条件太苛刻了，不用上课，不用考试……对了，校长同意给苏哲学习和科研方面的自由，但每年需要相应的成果，或者通过校学术委员会的现场考核。”牛光辉补充道。
包正义点点头，说道：“这个比较合理，我想这个苏哲会接受的。”
绝对的自由也不是好事，适当的考核还是有必要的。
两人聊完苏哲的事，聊起国内euv光刻机及五纳米以下芯片制程工艺的相关话题。
范晓明一边开车，一边听着，心里很不是滋味。
目前国内，能够自主可控的是制造28纳米及28纳米以上制程工艺的芯片。
14纳米制程工艺的芯片国内能生产，但相关设备高度依赖进口。
至于14纳米一下，国内目前无法制造。
现在，世界上最先进的芯片制程工艺是3纳米。
14纳米、7纳米、5纳米，再到3纳米，比起国内，整整先进了四代。
而他们这些人，以及相关的高校、机构直接跳过了前面的三代，直接研究3纳米芯片制程工艺。
相关的设备如刻蚀机、薄膜沉寂设备等等都已解决，就剩下最为核心的光刻机了。
而光刻机中的三大难题，euv光源、双工件台和光学镜头，其中双工件台的难题已经解决。
euv光源的问题，清大研制的同步辐射光源虽说极其耗能，但能用。
最后就是光学镜头了。
就他知道的专业研究光学镜头的团队就超过了五个，再加上一些不知名的，参入euv光学镜头研究的团队很多。
相对来说，上岭大学光学镜头研究中心走在了最前列，一旦突破离子束抛光技术，euv光刻机光学镜头的难题将得到解决。
那时euv光刻机的制造不再是难题，这也意味着他们实现了弯道追赶，掌握自主可控的3纳米芯片制程工艺。
他觉得，突破离子束抛光技术的时间快了，那怕苏哲那没有进展，靠他们自己，再来两轮差不多就成功了。
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